Руководитель складского офиса (стоматологическая продукция)
Вакансия № 30410602 от компании ТОО IDL IMPLANTS в населенном пункте (городе) Алматы на Мультирегиональной Электронной Службе Занятости Населения.
☑ Основы вакансии:
Опыт работы: 1–3 года.
Тип занятости: полная занятость.
График работы: полный день.
Зарплата: от 230000 KZT.
Место работы (точный адрес): Республика Казахстан, Алматы, Ударная улица, 23/1.
☑ Актуальность объявления:
Это объявление № 30410602 добавлено в базу данных: Суббота, 6 апреля 2024 года.
Дата его обновления на этом интернет-ресурсе: Среда, 1 мая 2024 года.
☑ Статистика объявления № 30410602:
Прочитано соискателями - 10 раз(а);
Отправлено откликов - 0 раз(а);
☑ Репутация компании "ТОО IDL IMPLANTS":
Читайте свежие отзывы сотрудников об этом работодателе здесь!
Оставить своё мнение об этой компании тут без регистрации и бесплатно.
☑ Подробности о вакантном месте:
Обязанности работника:
-Управление складским хозяйством
-Организация всех процессов на складе: поступление, хранение, отпуск и отгрузка товара, распределение по местам хранения, подача
-Введение необходимой складской документации в 1С.
-Обеспечение перемещения товара с центрального склада в склады филиалов
-Планирование перечня товара для пополнения склада
-Оформление заявок на поставку товаров для поставщиков
-Возврат брака поставщикам
-Координация работы комплектования товара по заявкам клиентов
-Координация водителей и курьеров, контроль своевременной доставки товара до точки
-Контроль исполнения заявок на доставку в Telegram
-Инвентаризация склада.
Требования к работнику:
- Опыт работы на схожей позиции, желательно в сфере медицины - не менее 1 года
- Знание 1 С - складской учет
- Знание работы CRM и Telegram
- Умение формировать заказы, контроль дедлайнов
- Навыки делегирования и менеджмента,
Условия труда:
- График работы 5/2, с 9.00 до 18.00
- Фиксированный оклад + бонусы
- Комфортный офис
- Дружный, молодой коллектив
- Материальная ответственность
☑ Отклинуться сообщением, резюме, запросить телефон, отправить жалобу (претензию):